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月刊 (国内外公开发行)
2025第12期(总第353期)
2025年12月出版
2025 Vol.35 No.12（Serial No.353)
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佛山市陶瓷研究所主办
中国陶瓷工业协会、佛山市陶瓷学会协办
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主管：广东佛陶集团股份有限公司
出版：《佛山陶瓷》编辑部
地址：广东省佛山市禅城区石湾榴苑路18号
邮政编码：528000
电话：0757-82269827 13318369456（微信同号）
网址：www.fstcmag.com
邮箱：foshanceramics@163.com
印刷：佛山市合创展印刷有限公司
发行：自办发行
发行范围：国内外公开发行
国内统一刊号：CN 44-1394/TS
国际标准刊号：1006-8236
广告许可证：4406004000008
定价：20.00元
版权声明：本刊已许可中国学术期刊（光盘版）电子杂志社在中国知网及其系列数据库产品、北京万方数据股份有限公司在万方数据库及系列数据库产品、超星期刊、中邮阅读网、龙源数据库、博看网等多家数据库，以数字化方式复制、汇编、发行信息网络传播本刊全文。该社著作权使用费与本刊稿酬一并支付。作者向本刊提交文章发表的行为即视为同意我社上述声明。
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| 分散剂对亚微米氮化硅粉体分散性能的影响 |
梁博，韩凤兰 （北方民族大学 材料科学与工程学院，银川 750021） 摘 要：本文利用研磨机将氮化硅(Si3N4)粉体研磨至亚微米级，并分析分散剂对Si3N4颗粒粒度的影响。从四甲基氢氧化铵（TMAH）、六偏磷酸钠（SHMP）和Darvan-c这三种分散剂对亚微米Si3N4分散性能的曲线图中可以看出，TMAH、SHMP和Darvan-c都有很强的抑制沉淀的作用，对亚微米Si3N4的分散效果较好。SHMP的加入量在1%时出现最佳值，随着加入量的逐渐增加，亚微米Si3N4的分散效果也逐渐变差。比较这三种分散剂，0.4%的Darvan-c对亚微米Si3N4的分散效果优于1%的SHMP和0.8%的TMAH对Si3N4的分散效果。 关键词：分散剂；亚微米；氮化硅；沉降行为 |
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